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공과대학 환경화학공학부 한윤봉(51) 교수가 세계적인 권위를 가진 영국 국제인명센터(IBC)에 의해 ‘2005년도 100대 과학자 (Top 100 Scientists - 2005)에 선정되어 인증서를 받았다.
한교수는 1991년 9월에 대학에 부임한 이래 플라즈마를 이용한 반도체공정개발에 관한 연구를 수행하고 있다. 특히, 고밀도 플라즈마를 이용하여 화합물반도체의 발광소자 응용을 위한 식각, 비휘발성 메모리 소자인 MRAM 응용을 위한 자성체 다층박막 식각, 초전도체의 트랜지스터 응용을 위한 식각기술 개발에 관한 연구결과는 세계적으로 인정을 받고 있으며, 그 공로가 인정되어 100대 과학자에 선정되었다.
최근에는 삼성전자의 산학과제로 ‘반도체 나노패터닝을 위한 하드마스크 재료 개발’ 연구를 수행중인데, 플라즈마 화학증착법을 이용한 새로운 물질의 개발에 성공하여 특허출원 하였으며, 후속연구가 진행됨에 따라 다양한 기술특허출원이 예상되고 있다. 그 외에도 한교수는 발광소자, LCD-TFT 및 태양전지용 투명산화막, 가스 및 바이오 센서 등 다양한 용도를 가진 산화아연(ZnO) 나노구조의 성장 메카니즘을 규명하여 대량생산 및 소자응용에 관한 연구를 수행하고 있다.
한교수는 국제학술지에 SCI 논문 115편을 게재하였으며, 현재 Journal of Physical Chemistry, Journal of Crystal Growth, Journal of the Electrochemical Society, Thin Solid Films 등의 심사위원으로 활동하고 있다.
영국 케임브리지에 본부를 두고 있는 국제인명센터(IBC·International Biographical Centre)는 분야별, 연도별 인명사전을 발행하고 있으며, 미국의 마르퀴즈 후즈후, 미국인명센터(ABI)와 함께 세계 3대 인명사전으로 손꼽힌다.
한교수는 1991년 9월에 대학에 부임한 이래 플라즈마를 이용한 반도체공정개발에 관한 연구를 수행하고 있다. 특히, 고밀도 플라즈마를 이용하여 화합물반도체의 발광소자 응용을 위한 식각, 비휘발성 메모리 소자인 MRAM 응용을 위한 자성체 다층박막 식각, 초전도체의 트랜지스터 응용을 위한 식각기술 개발에 관한 연구결과는 세계적으로 인정을 받고 있으며, 그 공로가 인정되어 100대 과학자에 선정되었다.
최근에는 삼성전자의 산학과제로 ‘반도체 나노패터닝을 위한 하드마스크 재료 개발’ 연구를 수행중인데, 플라즈마 화학증착법을 이용한 새로운 물질의 개발에 성공하여 특허출원 하였으며, 후속연구가 진행됨에 따라 다양한 기술특허출원이 예상되고 있다. 그 외에도 한교수는 발광소자, LCD-TFT 및 태양전지용 투명산화막, 가스 및 바이오 센서 등 다양한 용도를 가진 산화아연(ZnO) 나노구조의 성장 메카니즘을 규명하여 대량생산 및 소자응용에 관한 연구를 수행하고 있다.
한교수는 국제학술지에 SCI 논문 115편을 게재하였으며, 현재 Journal of Physical Chemistry, Journal of Crystal Growth, Journal of the Electrochemical Society, Thin Solid Films 등의 심사위원으로 활동하고 있다.
영국 케임브리지에 본부를 두고 있는 국제인명센터(IBC·International Biographical Centre)는 분야별, 연도별 인명사전을 발행하고 있으며, 미국의 마르퀴즈 후즈후, 미국인명센터(ABI)와 함께 세계 3대 인명사전으로 손꼽힌다.
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